Horiba直接注入式汽化器VC-1420

Horiba直接注入式汽化器VC-1420

直接液体注入系统

在半导体测试工艺过程中控制气体比例和湿度平衡相当困难，可以通过以下产品达到准确的气体平衡和气体湿度：气体 MFC（SEC-Z512MGX、N112MGX、）、液体 MFM（LF-F20M-A）、汽化器（MV-2000）。

Horiba直接注入汽化器VC-1420能够在无载气的情况下快速汽化纯水或其他液体源，组建更紧凑的汽化系统。

HORIBA 可为您提供由 Horiba直接注入式汽化器VC-1420和您需要的所有其他组件组成的定制汽化系统：

· 一种用于流量测量的液体质量流量计

· 一种用于蒸气流量测量的高温质量流量控制器

· 阀门、过滤器、加热器等

特征

· 尺寸紧凑

· 可安装在各种位置

· 畅销的 TEOS 汽化系统

· 结合 SEF 或 LF，可实现数字控制

· 无需特殊鼓泡罐或汽化罐

· DeviceNetTM 型产品系列

· 符合 RoHS 标准

技术参数

外形尺寸图

HORIBA 是高性能汽化系统的供应商之一。HORIBA 液体源汽化器贯穿整个半导体制程，可以安全有效地将液相化学品以气相形态输送至使用点。无论液态化学品是需要在真空下还是大气压下汽化，HORIBA 的汽化技术都能提供符合要求的汽化系统。包括：汽化器VC系列、汽化器MV系列、汽化器VE系列。

畅销型号：VC-1420、MV-1000、MV-2000、VE-10、VE-30.

汽化器注入式方法

以下是将液体源气化并输送入反应腔的主要步骤。

1.测定液体源的流量，并通过反馈电路，控制阀门开度。

2.液体瞬间全部气化。

3.气体被释放，且不会变回液相状态。

气化系统采用注入式的方法继而按以上1,2,3步进行传输。

汽化器VC-1420采用内置质量流量计测量液体流量，因此不再需要其他载气。

汽化器VC与其他设备组合使用

汽化器MI-1000、汽化器MV-2000需要配置液体流量计LF-A、载气流量控制器SEC，来实现液体源汽化。

金属有机化学气相沉积(MOCVD)

先进的高精度过程控制仪器用于高产量 MOCVD 应用

电力电子领域的许多行业使用金属有机化学气相沉积(MOCVD)作为激光二极管、LED和半导体制造的标准工艺。MOCVD工艺是一种成熟的可控合成方法，它使用了多种MO源，如三甲基铟(TMI)和二乙基锌(DEZ)，需要一种稳健的传递方法，以确保沉积过程的重复性和高收率。MOCVD系统利用起泡器汽化，从而控制MO源浓度、生长时间和生长速率。部分MO源用载气流带出源瓶，并从起泡器流向腔室。在这个过程中捕获的MO源的浓度必须是已知的，而且最重要的是必须具有重复性，以提供最大的工艺效率。实现这一目标需要精确、快速和理想的过程变量的闭环控制，包括气体流量、温度和压力。